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日立高新磁控濺射器

產(chǎn)品時間：2024-06-02

訪問次數(shù)：1317

簡要描述：

日立高新磁控濺射器
采用LCD觸摸屏，可以更加簡便地設(shè)定加工條件
可處理較厚或較大的樣品(選配件)
記憶功能可存儲常用加工條件

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日立高新磁控濺射器MC1000

日立高新磁控濺射器（Hitachi Ion Sputter )MC1000采用了電磁管電極，能夠限度地減輕對樣品的損壞，并在樣品表面涂覆一層均勻粒子。適用于高分辨率的掃描式電子顯微鏡。

  • 日立高新磁控濺射器（Hitachi Ion Sputter )MC1000的樣品直徑：60 mm

  • 日立高新磁控濺射器（Hitachi Ion Sputter )MC1000的樣品高度：20 mm

 日立高新磁控濺射器

特點：

  • 采用LCD觸摸屏，可以更加簡便地設(shè)定加工條件

  • 可處理較厚或較大的樣品(選配件)

  • 記憶功能可存儲常用加工條件

規(guī)格：

日立科學儀器有限公司為您提供日立高新磁控濺射器MC1000的參數(shù)、價格、型號、原理等信息，日立高新磁控濺射器MC1000產(chǎn)地為日本、品牌為日立，型號為MC1000，價格為面議，更多相關(guān)信息可，公司客服電話7*24小時為您服務(wù)


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